近日，由北方華創(chuàng)自主研發(fā)的12英寸高密度等離子體化學(xué)氣相沉積（HDPCVD）設(shè)備Orion Proxima正式進(jìn)入客戶端驗(yàn)證。
北方華創(chuàng)稱，這標(biāo)志著北方華創(chuàng)在絕緣介質(zhì)填充工藝技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了新的突破，也為北方華創(chuàng)進(jìn)軍12英寸介質(zhì)薄膜設(shè)備領(lǐng)域，打開百億級(jí)市場(chǎng)邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。
北方華創(chuàng)表示，Orion Proxima作為北方華創(chuàng)推出的國(guó)產(chǎn)自研高密度等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備，主要應(yīng)用于12英寸集成電路芯片的淺溝槽絕緣介質(zhì)填充工藝，通過沉積-刻蝕-沉積的工藝方式可以有效完成對(duì)高深寬比溝槽間隔的絕緣介質(zhì)填充。現(xiàn)階段，Orion Proxima技術(shù)性能在迭代升級(jí)中已達(dá)業(yè)界先進(jìn)水平。
封面圖片來源：拍信網(wǎng)
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