三星電子在EUV曝光技術(shù)取得重大進(jìn)展，韓媒BusinessKorea報導(dǎo)，三星電子DS部門研究員Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩掩膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達(dá)90%，計劃再提高至94-96%。
EUV光罩掩膜（Pellicle）是光罩上的薄膜，保護(hù)光罩免于微塵或揮發(fā)性氣體的污染，使EUV順利傳輸。光罩掩膜也是EUV曝光時的關(guān)鍵零件，目的是增加芯片生產(chǎn)良率，減少光罩使用時的清潔和檢驗。
三星今年初聲稱已開發(fā)出透光率達(dá)88%的EUV光罩掩膜，且這款產(chǎn)品已經(jīng)可以量產(chǎn)，而Kang表示三星EUV掩膜透光率再度增加，達(dá)到90%。其中，透光率90%的意思是只有90%進(jìn)入薄膜的光線能到達(dá)光罩，這可能會影響電路圖案的精度。這比更常見的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）還低。
當(dāng)EUV光罩掩膜在250瓦光源下操作時，每平方公分會產(chǎn)生的5瓦熱量，導(dǎo)致溫度高達(dá)680℃以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩掩膜在EUV過程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問題。
據(jù)報導(dǎo)，三星已主要客戶的部分先進(jìn)EUV代工生產(chǎn)線上導(dǎo)入EUV光罩掩膜。雖然三星也在DRAM生產(chǎn)線中采用EUV制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認(rèn)為即使沒有光罩掩膜也可以進(jìn)行存儲器量產(chǎn)。
EUV光罩掩膜目前有ASML、三井化學(xué)（Mitsui Chemicals）、信越化學(xué)、S&S Tech、FST等業(yè)者跨足，但據(jù)Kang透露，三星并沒有使用韓國國內(nèi)供應(yīng)商提供的EUV光罩掩膜，而是與日本三井化學(xué)合作，為唯一供應(yīng)商。
雖然FST和S&STech等韓國公司正積極開發(fā)EUV光罩掩膜，但還沒實現(xiàn)量產(chǎn)。相比之下，臺積電早在2019年開始使用自行開發(fā)的光罩掩膜，并已在7nm以下制程的生產(chǎn)線使用。
封面圖片來源：拍信網(wǎng)
