12月12日，盛美上海宣布推出擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的Ultra PmaxTM等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備，拓展了一個(gè)重要的全新產(chǎn)品分類。盛美上海預(yù)計(jì)將在幾周內(nèi)向中國(guó)的一家集成電路客戶交付其首臺(tái)PECVD設(shè)備。
盛美上海首席執(zhí)行官王堅(jiān)表示，“Ultra PmaxTM PECVD設(shè)備的推出，標(biāo)志著我們?cè)谇暗腊雽?dǎo)體應(yīng)用中進(jìn)一步擴(kuò)展到了全新的工藝領(lǐng)域。我們有很多客戶是28納米及以上的邏輯器件供應(yīng)商。我們預(yù)測(cè)到了成熟工藝節(jié)點(diǎn)產(chǎn)能的增加，因?yàn)橹袊?guó)市場(chǎng)的成熟工藝節(jié)點(diǎn)產(chǎn)能明顯供不應(yīng)求?！蓖鯃?jiān)預(yù)測(cè)，這次推出的PECVD設(shè)備，及上個(gè)月發(fā)布的前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith，這兩個(gè)全新的產(chǎn)品系列將使公司全球可服務(wù)市場(chǎng)規(guī)模翻倍增加。
據(jù)介紹，Ultra PmaxTM
PECVD設(shè)備配置了自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的腔體、氣體分配裝置和卡盤設(shè)計(jì)，能夠提供更好的薄膜均勻性，更小的薄膜應(yīng)力和更少的顆粒特性。該設(shè)備采用單腔體模塊化設(shè)計(jì)，有兩種配置：一種是可以配置一至三腔體模塊，適合極薄膜層或快速工藝步驟；另一種是可以配置四至五腔體模塊，在優(yōu)化產(chǎn)能的同時(shí)，支持厚膜沉積以及更長(zhǎng)的工藝時(shí)間。以上兩種配置中，每個(gè)腔體都安裝有多個(gè)加熱卡盤，以優(yōu)化工藝控制并提高產(chǎn)能。
