據(jù)外媒消息，近日，三星電子將本土公司東進(jìn)世美肯半導(dǎo)體開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外 (EUV) 光刻膠引入其量產(chǎn)生產(chǎn)線，據(jù)悉，這是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試，此前，韓國的光刻膠需求高度依賴于日本及從其它國家進(jìn)口。
公開資料顯示，光刻膠是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，是指經(jīng)過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射后，溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，主要應(yīng)用于積體電路和分立器件的細(xì)微圖形加工。
外媒消息顯示，東進(jìn)世美肯半導(dǎo)體的光刻膠在去年通過了三星電子的可靠性測試，距今不到一年就被應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)線。目前，除了東進(jìn)世美肯外，韓國本土企業(yè)永昌化學(xué)和SK材料性能也在開發(fā)光刻膠，但它們還沒有達(dá)到可靠性驗(yàn)證的水平。
光刻膠產(chǎn)業(yè)有著極高的行業(yè)壁壘。首先它對樹脂和感光劑等原材料要求較高，并且制作技術(shù)壁壘高，在研發(fā)和量產(chǎn)上都需要企業(yè)的長期技術(shù)積累。此外在產(chǎn)品送樣前，光刻膠生產(chǎn)商還需要購置光刻機(jī)用于內(nèi)部配方測試，根據(jù)驗(yàn)證結(jié)果調(diào)整配方。
根據(jù)曝光波長的不同，光刻膠可以分為g線、i線、KrF、ArF以及EUV光刻膠5大類別，其中g(shù)線、i線一般用于250nm以上工藝，KrF、ArF和EUV光刻膠屬于高端光刻膠，KrF一般用于250nm-130nm工藝，ArF一般用于130nm-14nm工藝，EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。
我國光刻膠市場格局
從整體業(yè)態(tài)來看，全球光刻膠市場高度集中，日本和美國企業(yè)把控著市場絕大部分市場份額。尤其是日本的JSR、TOK、信越化學(xué)、住友化學(xué)以及富士膠片四家企業(yè)便占據(jù)了超過全球80％左右的市場份額，且側(cè)重中高端光刻膠布局，壟斷地位穩(wěn)固。
從我國光刻膠情況看，國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品主要集中在g/i線市場，同時(shí)廠商也在不斷發(fā)力KrF、ArF等高端光刻膠領(lǐng)域，并獲得了一定突破。
在KrF光刻膠領(lǐng)域，北京科華和徐州博康已具備批量供貨能力，此外晶瑞電材11月末消息顯示，高端KrF光刻膠已完成中試，上半年KrF光刻膠生產(chǎn)及測試線已經(jīng)基本建成，爭取今年批量供貨。上海新陽8月透露，光刻膠驗(yàn)證工作還在進(jìn)展中，KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。
ArF光刻膠主要用于ArF準(zhǔn)分子激光光源的DUV光刻機(jī)的光刻工藝當(dāng)中，是重要的光刻膠品類之一，國內(nèi)廠商正處于技術(shù)開發(fā)或客戶驗(yàn)證中。如南大光電11月消息顯示，其193nm Arf光刻膠已通過兩家客戶驗(yàn)證，上海新陽ArF光刻膠則處于驗(yàn)證階段。
EUV光刻膠主要用于7nm及以下先進(jìn)制程的光刻工藝，國內(nèi)廠商EUV光刻膠處于早期研發(fā)階段，涉足企業(yè)包括上海新陽等。
隨著全球半導(dǎo)體增產(chǎn)擴(kuò)能的繼續(xù)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游的半導(dǎo)體材料將持續(xù)受益，未來全球光刻膠市場增長勢頭明顯。此外，隨著各國自研加速，全球光刻膠市場格局或?qū)⒂瓉碜兏铩?/p>
