3月19日，英偉達宣布，為加快下一代先進半導體芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC和Synopsys將在生產中使用NVIDIA計算光刻平臺。
臺積電、新思科技已將NVIDI AcuLitho集成到其軟件、制造工藝和系統(tǒng)中，在加速芯片制造速度的同時，加快對未來最新一代NVIDIA Blackwell架構GPU的支持。
英偉達CEO黃仁勛表示，計算光刻技術是芯片制造的基石，公司與臺積電和新思科技合作開發(fā)的cuLitho技術，應用了計算加速和生成式人工智能（AI），從而開辟半導體制造的新領域。
同時，英偉達宣布推出新的生成式AI算法，增強cuLitho。與當前基于CPU計算的方法相比，可顯著改進半導體制造工藝。
英偉達指出，計算光刻是半導體制造過程中計算最密集的工作負載，每年消耗數百億小時CPU運行時間。其中芯片生產關鍵步驟中的典型掩模，可能需要耗費3000萬或者更多小時CPU計算時間，這就需要在半導體代工廠內建設大型數據中心。
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